荆州市清源净化设备有限公司

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电子行业高纯水

襄樊仪表元件厂采用反渗透+混合床工艺制取高纯水,用于硅片清洗。主要技术指标:

      反渗透产水量≥6T/H,脱盐率≥98%,水利用率≥75%,产水电导率≤5μS/cm。

      混合床离子交换系统:产水量≥10~12 M³/H,产水电阻率≥17MΩ·CM(25℃)。

      实际生产运行中,单级反渗透产水电导率为1.98μS/cm,混合床离子交换系统单级出水即达到17.23MΩ·CM,完全满足厂方生产制造的用水需要。

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反渗透+混合床工艺

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移出式再生装置

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预处理及混合床

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反渗透主机

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单级反渗透产水电导率1.98μS/cm

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混合床产水电阻率17.23MΩ·cm